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(3)在473K、3.010^3kPa的高压HCl1氛围下,以0.005mol.Ph-CC=C-CH3为原料进行上述反应,反应过程中除HCl外该炔烃及反应产物的占比[如:(产物I)=n(n-1)n(Ph-C-CH3)+n()[1)+n(产物随时间的变化如图,则反应的活化能反应I反应Ⅱ(填“大于”“小于”或“等于”),Ph-C=C-CH3的平衡转化率为,反应Ⅱ的KP=,为获得产物I可采取的措施为占比/%-45%产物Ⅱ35%产物It/min
15.常温下,向含浓度均为0.1molL^-1的HA、MSO4、NSO4混合溶液中加人NaOH溶液,测得pR随pH的变化关系如图所示:已知:pR表示-lgc(HA)c(A^-),-lgc(M^2+)M*)或-c(N^2+):Kn[M(OH)2]<Knp[N(OH)2],,溶液中离子浓度小于或等于10^-5molL^-1时,可认为该离子完全沉淀。下列说法错误的是A.曲线②代表-c(HA)c(A^-)随pH的变化关系,且Ks=10^-4.8B.根据离子开始沉淀的pH和完全沉淀的pH[范围判断;可以通过调pH方式除去该混合溶液中的M^2+C.滴加NaOH溶液过程中,始终存在::c(H^+)+c(Na^+)+2c(M^2+)+2c(N^2+)=c(OH^-)+c(A^-)2c(SO4^2-)D.pH=6时,,c(N^2+)<c(HA)c(A^-)<c(M^2+)
(1所示,铈浸出率与硫酸浓度的关系如图2所示。工业生产应选择的适宜温图1molL^-1。℃,适宜的硫酸浓度是mol·L。。温度是
1molN=N、F-F、N-FB11.NF311.NF,是电子工业使用的一种新型蚀刻气体。实验分别测得断裂1molN=N、F-F,N-F所需的能量如图NN=N28mo下列说法错误的是N2化学性质比稳定A.相同条件下,F2B.NF3的能量一定比N2和F2总和高C.N2(g)+3F2(g)2NF3(g)H=-287kJmol^-1裂化学键需要吸收能量,则形成化学键一定放出能量D.断
13.YX4Z(WR4)213.YX,Z(WR)常用于抗酸、治疗慢性胃炎。它所含的五种主族元素位于三个短周期,基态Rns^nnp^2n,R豆周期期,基态R原子的价层电子排布式为np²",R和W位于同主族,Y的最高价氧化物对应的水化物和对应的水化物和其最简单氢化物能反应生成离子化合物,Z的周期序数和主族序数相等。下列叙述正确述正确的是A.元素电负性:R>YB.最简单氢化物的沸点:W>YC.W的氧化物对应的水化物一定是强酸D.YX3、X3R^+的VSEPR模型为三角锥形
